T005837　半导体工艺化学

出处：按学科分类—综合性图书 湖北人民出版社《中国图书大辞典：1949-1992第15册工业技术(上)》第602页（364字）

韩爱珍主编。

东南大学出版社1991年1月版。39．0万字。电子工业部“七五”规划统编教材。

从基本理论出发，讲述半导体器件制作工艺中的化学原理。

共7章。第一章相图及其应用，介绍相律、相平衡及相图在半导体生产中的应用。第二章半导体技术中的有机物和高聚物，介绍有机物、高聚物在半导体技术中的应用。第三章半导体技术中的高纯水，介绍各种高纯水的制备方法及测量。

第四章半导体技术中的化学清洗，介绍半导体晶片表面沾污，有机杂质、无机杂质的清除及各种清洗方法。第五章表面化学及其应用，介绍表面能、表面吸附、吸附在半导体工艺中的应用。第六章半导体技术中的电化学，介绍半导体材料及金属材料的腐蚀、电镀、电沉积和氧极氧化。第七章光化学，介绍光化学反应、照相及光刻中的光化学、半导体工艺中的激光化学。